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材料科学论文_CeO_(2)基磨粒在化学机械抛光中
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摘要：文章摘要:稀土CeO 2 由于其适当的机械性能及高的化学活性，更重要的是其对Si 3 N 4 /SiO 2 的高选择性去除，使其被广泛应用于浅槽隔离化学机械抛光工艺中。本文论述了CeO 2 基抛光剂的
文章摘要:稀土CeO2由于其适当的机械性能及高的化学活性，更重要的是其对Si3N4/SiO2的高选择性去除，使其被广泛应用于浅槽隔离化学机械抛光工艺中。本文论述了CeO2基抛光剂的抛光机理的研究进展，从CeO2磨料的形貌尺寸、晶体结构、力学性能方面分析了磨料性质对抛光性能的影响，并进一步讨论了CeO2基研磨颗粒及相关辅助抛光技术在CMP应用上的研究进展。以此为CeO2基磨料的可控制备及新型抛光技术的发展提供借鉴，并希望能够促进CeO2在抛光工艺中作用机理的揭示，使CeO2抛光液更广泛地应用于材料的平坦化处理中。
文章关键词:
论文分类号:TB306
文章来源：《化学进展》 网址: http://www.hxjzzz.cn/qikandaodu/2021/1006/1506.html